电晕放电和介质阻挡放电plasma设备的区别哪些

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电晕放电和介质阻挡放电plasma设备的区别哪些：

一、plasma电晕放电

气介质在不均衡电场中的部分自持放电。它是最常见的的汽体放电方式。在回转半径小的前沿电极的附近，考虑到部分电场强度超出的汽体的电离场强度，的汽体产生电离和激励，因而出現电晕放电。当电晕产生时，能够看见电极的附近的光，并伴有唑唑声。plasma电晕放电可以是1种比较稳定的放电方式，也能够是不均衡电场间隙穿透流程中的初期发展环节。

二、plasma介质阻挡放电

plasma介质阻挡放电（DBD）是1种含有绝缘介质插入放电空间的不平衡的汽体放电，也将之称为介质阻挡电晕放电或无声放电。介质阻挡放电可以在高压和宽频率范围内工作，通常工作气压为10~10。电源频率可以从50Hz到1MHz。电极构造的设计方式多种多样。2个放电电极相互间充斥着相应的工作的汽体，用绝缘介质覆盖一个或2个电极，也能够直接悬挂在放电空间或填充颗粒介质，当2个电极相互间施加足够高的交流电压时，电极相互间的的汽体会被击穿并产生放电，即产生介质阻挡放电。在实际运用中，管道电极构造广泛运用于各种化学反应器，而平板电极构造广泛运用于工业聚合物、金属塑料薄膜和板的改性、分支、界面张力、清洗和亲水改性。

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